真空蒸着とは、10-2Pa以下の真空中で、金属あるいはセラミックスを抵抗加熱あるいは電子ビームなどによって加熱蒸発させ、原子またはクラスターを製品表面に付着させる技術です。
蒸発物質の種類を選択することにより、装飾性に優れた、あるいは機能性の高い薄膜をコーティングすることができます。

◆コーティング種類
意匠性コーティング: アルミ蒸着(コーティング)化粧品容器・反射鏡
光機能コーティング: ARコーティング(反射防止膜)ダイクロイックミラー
ダイクロイックフィルター赤外線カットフィルター
ビームスプリッター、Vコーティング、レーザーミラー、
AI増反射ミラー

【成膜方法別の被膜特性】


真空蒸着 スパッタリング イオンプレーティング
抵抗加熱 電子ビーム 抵抗加熱 電子ビーム
粒子エネルギー 0.1〜1eV 0.1〜10eV 0.1〜1000eV
コーティングの可否
 高融点金属
 低融点金属
 高融点酸化物

不可能
可能
不可能

可能
可能
可能

可能
可能
可能

不可能
可能
不可能

可能
可能
可能
付着性 良い かなり良い 非常に良い
つきまわり性 蒸発源に対し
直行面には、良く付く
つきまわり性は良い つきまわり性は良い
膜密度 低温では密度は低い 高密度 高密度
成膜レート 0.1〜50μm/min. 0.01〜0.5μm/min 0.1〜50μm/min
コーティング膜外観 光沢〜反光沢 光沢〜艶消し 光沢〜艶消し
膜中のピンホール 低温成膜ではやや多い 少ない 少ない

真 空 技 術 概 要
Vacuum Deposition Methode Sputtering Methode RF lon Plating Methode

製品表面にアルミをコーティングすることにより、金属感を持たせた化粧品容器や光の反射性能を向上させた反射鏡などのメタライジング処理だけでなく、カラーリングやパール、艶消しなどと組み合わせることにより、より装飾性に富んだコーティングが可能です。

反射鏡
化粧品容器
このページのtopへ


基板表面の光の反射を低下させることにより、透過率を上げることが出来る単層もしくは多層の誘電体薄膜です。
フィルター・レンズなどの光学部品にコーティングすることにより、光の散乱や損失を低下させ、光学機器において鮮明な像を得ることが出来ます。

◆特徴
単層反射防止膜、マルチコート、広帯域マルチコートなど各種のAR コーティングができます。
膜品位が高い
任意の入射角度に合わせた膜設計が可能

◆用途
カメラ、ビデオ、CCD用カバーガラス、太陽電池用カバーガラス、光ピックアップ、プロジェクター、複写機、各種光学機器



可視光の特定波長域の光を反射させ、他の波長域の光を透過させることにより、効率よく R・G・Bに色分解する誘電体多層膜ミラーです。光の三色分解や三色合成が可能です。

◆特徴
効率の良い色分解が可能
色分解後の反射光は平均90%以上の高い反射率をもつ
光の入射角度や反射率50%の波長位置を任意に設定可能
プリズムタイプもあります

◆用途
ビデオカメラ、プロジェクター、カラー複写機、OHP、カラープリンター、ファクシミリ、照明機器、各種光学機器



可視光の特定波長域の光を透過させ、他の波長域の光を反射させることにより、効率よくイエロー、マゼンタ、シアン等の補色を透過させる誘電体多層膜フィルターです。

◆特徴
平均90%以上の高い透過率をもつ
光の入射角度や透過率50%の波長位置を任意に設定可能
ブルーフィルター、グリーンフィルター、レッドフィルターもあります

◆用途
カラープリンター、ラボ用カラー引伸機、カラーファックス、照明機器、各種光学機器



可視光を透過させ、近赤外線を反射させる誘電体多層膜フィルターです。ビデオカメラ等のCCDデバイスに悪影響をおよぼす近赤外線カット用として使用されています。短波長側の透過率50%の波長位置、透過率、カット波長帯域等の光学特性は任意に設定できます。

◆特徴
可視光の透過率が高い
機械的、物理的特性に優れている
近赤外線のカット帯域の広いものも可能
ガラス、液晶等各種の基板にコート可能

◆用途
ビデオカメラ、CCDデバイス、複写機、イメージスキャナー、照明機器、各種光学機器


Ion Plating & Sputteringへ >>
<< General Surface Indexへ